光蚀刻设备

Advanced Reticle Etching System

光蚀刻设备

光蚀刻设备

下个世代先端process开发用,能形成微细的pattern,在PhotoMask制造中用的Etching设备。

特长

  • NIL?EUVMask?光Mask、等各个种类都可对应
  • 最大可搭载4个Chamber,可灵活的对应各种制造工艺
  • 采用独立的Plasma源,可达到最高端Mask所需要的的CDU性能
  • 能提供减少10nm大小的defect的技术提案。

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